ZhenAn kõrge puhtusastmega ränikarbiidi pulber
Ränil on kaks allotroopi: amorfne räni ja kristalne räni. Amorfne räni on hallikasmust pulber, mis on tegelikult mikrokristall. Kristallilisel ränil on teemandi kristallstruktuur ja pooljuhtomadused, mille sulamistemperatuur on 1410 kraadi, keemistemperatuur on 2355 kraadi, tihedus 2,32–2,34 g/cm3, Mohsi kõvadus 7 ja habras. Keemiline räni viitab metallilisele ränile, mida kasutatakse orgaanilise räni ja polükristallilise räni tootmisel.
Metallist ränipulber
Globaalsest vaatenurgast on metallurgilise räni tarbimine suurem kui keemilise räni tarbimine. Teaduse ja tehnoloogia pideva arenguga aga laieneb keemilise räni kasutamine sellistes valdkondades nagu orgaaniline räni ja pooljuhtide tootmine jätkuvalt ning seda kasutatakse laialdaselt orgaanilise räni tootmisel. Ränimonomeer ja polümeersilikoonõli, silikoonkummi, silikoonvaigu hoone korrosioonivastased ja hüdroisolatsiooniained jne on ainulaadsete omadustega, nagu kõrge temperatuuritaluvus, elektriisolatsioon, kiirguskindlus ja veekindlus. Kasutatakse elektri-, lennundus-, masina-, keemiatööstuses, meditsiinis, riigikaitses, ehituses ja muudes sektorites. Integraallülituste põhiliste elektrooniliste komponentidena on enam kui 95% valmistatud pooljuhtränist. Pooljuhid on kaasaegse infotööstuse selgroog.
Silicon Metal Powder Labi klass
Amorfne ränion keemiliselt aktiivne ja võib hapnikus ägedalt põleda. See reageerib kõrgel temperatuuril mittemetallidega, nagu halogeen, lämmastik ja süsinik, ning võib reageerida ka metallidega, nagu magneesium, kaltsium ja raud, moodustades silitsiide. Amorfne räni on peaaegu lahustumatu kõigis anorgaanilistes ja orgaanilistes hapetes, sealhulgas vesinikfluoriidhappes, kuid lahustub lämmastikhappe ja vesinikfluoriidhappe segus. Kontsentreeritud naatriumhüdroksiidi lahus võib lahustada amorfset räni ja vabastada vesinikgaasi. Kristalne räni on suhteliselt inaktiivne ja ei ühine hapnikuga isegi kõrgetel temperatuuridel. See ei lahustu ka mis tahes anorgaanilises ja orgaanilises happes, kuid lahustub lämmastikhappe ja vesinikfluoriidhappe segus hapetes ja kontsentreeritud naatriumhüdroksiidi lahuses.
